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產(chǎn)品展示/ Product display

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藥用輔料二氧化鈦研磨分散機

藥用輔料二氧化鈦研磨分散機,是專業(yè)針對二氧化鈦用于醫(yī)藥領(lǐng)域時的特性研發(fā)。二氧化鈦作為藥用白色顏料,廣泛用于不透明膠囊、片劑薄膜包衣等。該設(shè)備運用高剪切等技術(shù),打破傳統(tǒng)設(shè)備局限,轉(zhuǎn)速遠超常規(guī),可達14000轉(zhuǎn) ,能高效破除二氧化鈦團聚現(xiàn)象,使物料充分分散 。設(shè)備材質(zhì)符合醫(yī)藥衛(wèi)生標準,從SUS304到氧化鋯陶瓷多種可選,且具備多種聯(lián)結(jié)形式、豐富電機類型,能滿足不同生

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-09-17
  • 訪  問  量:26
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詳細介紹

藥用輔料二氧化鈦研磨分散機


二氧化鈦在食品和醫(yī)藥中使用二氧化鈦同樣是利用了其不透明性,以提高食品和醫(yī)藥制品的裝飾增白著色效果。藥用白色顏料,具有顏料性能好,有害雜質(zhì)含量低等優(yōu)點,是食品著色的添加劑,具有粒度均勻,均質(zhì)性好的優(yōu)點,適合用于:果凍、膨化食品、糖果、涼果、口香糖、硬糖、沙拉醬、碳酸飲料和奶制品系列等食品增白著色。藥用白色顏料,具有優(yōu)異顏料性能有害雜質(zhì)的量低,適合制造不透明、片劑薄膜包衣、霜劑、藥用包裝材料、藥用油墨,也可作為化妝品和食品的添加劑。具有粒度均勻,均質(zhì)性好的優(yōu)點,去粒子水和明膠中均質(zhì)良好,無絮凝沉淀物。

研磨分散機對于研磨藥用輔料二氧化鈦的優(yōu)勢:


一、縮短工藝時間。SID高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結(jié)塊和團聚。也提供GLD和GLC粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環(huán)處理,一次性通過便可成型。

二、提高品質(zhì)。SID高剪切混合機可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。SID磨機可以納米程度縮小粒徑,達到窄粒徑分布。分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多,但也可達到相類似的效果。模塊化設(shè)計的SID 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。將SID高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成研磨分散機,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。

藥用輔料二氧化鈦研磨分散機



研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
                          

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。


藥用輔料二氧化鈦研磨分散機

【GMD2000系列研磨分散機的特點】

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

藥用輔料二氧化鈦研磨分散機GMD2000設(shè)備型號參數(shù)表:

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。



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